반도체 공정개론 solution(솔루션) 2판 Rich-ard C. Jaeger
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작성일 20-10-01 02:39
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미소전자소자 제조의 기초가 되는 개개의 단위 공정을 초반에 소개한 후 후반부에 이 단위 공정들로부터 이루어진 실제적인 MOS,MEMS 등의 소자와 집적 기술을 다루었다.또한 공정마다 theory 적인 내용과 함께 공정에 사용되는 실제적인 응용을 깊이있게 …(To be continued )
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반도체 공정개론 solution(솔루션) 2판 Rich-ard C. Jaeger
레포트/공학기술
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미소전자소자 제조의 기초가 되는 개개의 단위 공정을 초반에 introduction한 후 후반부에 이 단위 공정들로부터 이루어진 실제적인 MOS,MEMS 등의 소자와 집적 기술을 다루었다.또한 공정마다 이론적인 내용과 함께 공정에 사용되는 실제적인 응용을 깊이있게 다루었으며, 각 장의 끝에는 읽는 사람들이 해당 내용을 쉽게 이해 할 수 있도록 돕는 문제를 수록하였다. , 반도체 공정개론 솔루션 2판 Rich-ard C. Jaeger공학기술레포트 , 반도체 공정개론 솔루션 2판 Rich-ard C Jaeger
제1장 미소전자 제조 공정 ...15
제2장 리소그래피 ...31
제3장 실리콘 산화막 ...57
제4장 확산 ...85
제5장 이온 주입법 ...131
제6장 박막 증착 ...155
제7장 상호접속과 접촉 ...181
제8장 패키징 및 수율 ...209
제9장 MOS 공정 집적화 ...235
제10장 양극 공정 집적화 ...273
제11장 MEMS 공정 ...313
미소전자소자 제조의 기초가 되는 개개의 단위 공정을 초반에 紹介(소개)한 후 후반부에 이 단위 공정들로부터 이루어진 실제적인 MOS,MEMS 등의 소자와 집적 기술을 다루었다.또한 공정마다 theory(이론)적인 내용과 함께 공정에 사용되는 실제적인 응용을 깊이있게 다루었으며, 각 장의 끝에는 읽는 사람들이 해당 내용을 쉽게 이해 할 수 있도록 돕는 문제를 수록하였다.
